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光刻设备和方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200810085879.9
  • IPC分类号:G03F7/20;H01L21/027
  • 申请日期:
    2008-03-28
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称光刻设备和方法
申请号CN200810085879.9申请日期2008-03-28
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2008-10-01公开/公告号CN101276154
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维德霍温 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人海涅·麦利·马尔德;约翰尼斯·雅克布斯·曼塞阿斯·卑斯尔曼思;艾德瑞纳斯·弗朗西斯克斯·皮卓斯·恩格伦;马卡斯·弗朗西斯克斯·安东尼斯·欧林斯;亨德瑞卡斯·罗伯特斯·玛丽·范格林温布洛克;帕特瑞卡斯·阿洛伊修斯·雅克布斯·蒂内曼斯;保罗·范德文;威尔弗莱德·爱德伍德·恩登迪基克
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人王波波
摘要
本发明公开了一种光刻装置及其方法。本发明还公开了一种器件制造方法,所述方法包括采用照射系统调节辐射束。所述调节包括:控制照射系统的独立可控的元件的阵列和相关的光学部件,以将辐射束转换成所需的照射方式,所述控制包括将不同的独立可控元件根据分配方案分配给所述照射方式的不同部分,所述分配方案被选择用于对照射方式、辐射束或照射方式与辐射束两者的至少一个属性提供所需的修正。所述方法也包括:以图案在辐射束的横截面上对辐射束进行图案化,以形成图案化的辐射束;以及将所述图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。

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