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化合物半导体发光器件及其制备方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN96104423.3
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    1996-03-27
  • 申请人:
    住友电气工业株式会社
著录项信息
专利名称化合物半导体发光器件及其制备方法
申请号CN96104423.3申请日期1996-03-27
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日1996-12-11公开/公告号CN1137690
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人住友电气工业株式会社申请人地址
日本大阪府 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人住友电气工业株式会社当前权利人住友电气工业株式会社
发明人三浦祥纪;松原秀树;松岛政人;关寿;纐缬明伯
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人董江雄;萧掬昌
摘要
一种化合物半导体发光器件包括:GaAs衬底;形成在衬底上的包括GaN的缓冲层,其厚度为10nm至80nm;形成在缓冲层上的包括AlGaN(0≤x<1)的外延层;位于缓冲层和外延层之间的界面上的极薄的平面;形成在外延层上的发光层;以及形成在发光层上的覆盖层。在第一温度下通过有机金属氯化物气相外延形成缓冲层,而在高于第一温度的第二温度下通过有机金属氯化物气相外延形成外延层。最好包括InGaN(0<y<1)的发光层掺有Mg。

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