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单光子光源元件及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201310410729.1
  • IPC分类号:H01L33/02;H01L33/04;H01L33/00
  • 申请日期:
    2013-09-11
  • 申请人:
    展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司
著录项信息
专利名称单光子光源元件及其制造方法
申请号CN201310410729.1申请日期2013-09-11
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2015-03-18公开/公告号CN104425659A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L33/02IPC分类号H;0;1;L;3;3;/;0;2;;;H;0;1;L;3;3;/;0;4;;;H;0;1;L;3;3;/;0;0查看分类表>
申请人展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司申请人地址
广东省深圳市宝安区龙华街道办油松第十工业区东环二路二号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人展晶科技(深圳)有限公司,荣创能源科技股份有限公司当前权利人展晶科技(深圳)有限公司,荣创能源科技股份有限公司
发明人邱镜学;林雅雯;凃博闵;黄世晟
代理机构深圳市鼎言知识产权代理有限公司代理人徐丽昕
摘要
一种单光子光源元件制造方法,包括以下步骤:提供一前驱体,该前驱体包含一基板及在该基板上依次生长的一未掺杂的低温GaN层、一未掺杂的高温GaN层、一N型GaN层、一量子阱层和一结构层;蚀刻所述前驱体的结构层、量子阱层和N型GaN层并形成楔形结构的阵列和一平面区;蚀刻楔形结构为柱状结构;在NH3气氛中热处理,使量子阱层转变为量子点层;在柱状结构侧面及柱状结构之间的N型GaN层的上表面生长一高介电层;在柱状结构的顶面所在平面之上依次生长一P型GaN层和一ITO层;在ITO层上和平面区上分别设置电极。

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