一种全息防伪烫印膜及其制备方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201010547986.6
IPC分类号：B41M5/26;B32B27/06;B32B27/36;B32B15/08;B32B15/20;B44C5/04
申请日期：
2010-11-12
申请人：
武汉华工图像技术开发有限公司

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著录项信息

专利名称	一种全息防伪烫印膜及其制备方法
申请号	CN201010547986.6	申请日期	2010-11-12
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2012-05-23	公开/公告号	CN102463758A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B41M5/26 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B4 印刷 B41 印刷；排版机；打字机；模印机〔4〕 B41M 印刷、复制、标记或拷贝工艺；彩色印刷（排印上的错误校正入B41J；提供转印图片或类似的方法入B44C 1/16；通过涂敷来校正印刷错误的液体介质入C09D 10/00；印刷纺织品入D06P） B41M5/00 复制或标记方法；供其使用的单张材料（用感光材料的入G03；电铸凹版法、磁性印刷法入G03G） B41M5/26 热压凸印法（B41M 5/20、B41M 5/24优先；光热敏物体系入G03C 1/498）〔5〕	IPC分类号	B;4;1;M;5;/;2;6;;;B;3;2;B;2;7;/;0;6;;;B;3;2;B;2;7;/;3;6;;;B;3;2;B;1;5;/;0;8;;;B;3;2;B;1;5;/;2;0;;;B;4;4;C;5;/;0;4查看分类表>
申请人	武汉华工图像技术开发有限公司	申请人地址	湖北省武汉市东湖新技术开发区庙山华中科技大学科技园华工图像园变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	武汉华工图像技术开发有限公司	当前权利人	武汉华工图像技术开发有限公司
发明人	郑成赋;李念武;吴守正;朱仕慧
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明公开了一种全息防伪烫印膜及其制备方法，全息防伪烫印膜包括从上到下依次叠加设置的塑料载体薄膜层、分离层、信息记录层、油墨层、介质层和热熔胶层。上述防伪烫印膜的制备方法，包括以下步骤：a.在塑料载体薄膜上涂布离型剂，制备出分离层；b.涂布高分子成像树脂；c.通过模压机将金属镍版上的激光全息信息转移到基膜的高分子成像树脂上，形成信息记录层；d.在信息记录层上印刷油墨层；e.在油墨层上镀介质层；f.在介质层上涂布热熔胶，制备得到成品。本发明具有更好的防伪效果，同时，由于本发明新增了一层油墨层，使得本发明可以拥有更加多样的外观设计。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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