用于制造量子点显示器件的方法以及对应的量子点显示器件

发明专利有效专利

申请号：
CN201610886181.1
IPC分类号：G02F1/1333;G02F1/13357
申请日期：
2016-10-11
申请人：
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司

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专利名称	用于制造量子点显示器件的方法以及对应的量子点显示器件
申请号	CN201610886181.1	申请日期	2016-10-11
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2016-12-14	公开/公告号	CN106226943A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/1333 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/1333 构造上的设备（G02F 1/135，G02F 1/136优先）〔5〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;3;3;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;5;7查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
发明人	邢伟强;王永茂;邓金阳;毛振华;游洪超;罗明
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	景军平;陈岚

摘要

本发明涉及量子点显示的技术领域，并且公开了一种用于制造量子点显示器件的方法。该方法包括：提供彼此相对的阵列基板和对合基板；将含有量子点材料的配向溶液印刷到阵列基板面向对合基板的一侧上；移除印刷到阵列基板面向对合基板的一侧上的配向溶液中的溶剂；在移除溶剂之后，加热阵列基板；以及在阵列基板背离对合基板的一侧上提供背光模组。本发明还公开了对应的量子点显示器件。借助于这样的制造方法，极大地提升了所制得的量子点显示器件的显示质量，并且降低了相关的制造成本和工艺难度。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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该专利没有被任何外部专利所引用！

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