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具有全环式接触件的FinFET

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201410281068.1
  • IPC分类号:H01L29/78;H01L29/06;H01L29/423
  • 申请日期:
    2014-06-20
  • 申请人:
    台湾积体电路制造股份有限公司
著录项信息
专利名称具有全环式接触件的FinFET
申请号CN201410281068.1申请日期2014-06-20
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2015-10-14公开/公告号CN104979396A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/78
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;9;/;0;6;;;H;0;1;L;2;9;/;4;2;3查看分类表>
申请人台湾积体电路制造股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人台湾积体电路制造股份有限公司当前权利人台湾积体电路制造股份有限公司
发明人黄玉莲;李东颖
代理机构北京德恒律治知识产权代理有限公司代理人章社杲;孙征
摘要
本发明提供了一种集成电路结构,包括:半导体衬底;位于半导体衬底上方的半导体鳍;位于半导体鳍的顶面和侧壁上的栅叠件;位于栅叠件一侧的源极/漏极区;以及环绕源极/漏极区的一部分的接触插塞。本发明还提供了一种形成集成电路结构的方法。

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