中心供液小磨头抛光工具

发明专利有效专利

申请号：
CN201710516235.X
IPC分类号：B24B41/00;B24B29/02;B24B57/02
申请日期：
2017-06-29
申请人：
天津大学

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	中心供液小磨头抛光工具
申请号	CN201710516235.X	申请日期	2017-06-29
法律状态	实质审查	申报国家	暂无
公开/公告日	2017-11-14	公开/公告号	CN107344329A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B41/00 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B41/00 磨削机床或装置的部件，比如机架，床身，滑板，床头箱的	IPC分类号	B;2;4;B;4;1;/;0;0;;;B;2;4;B;2;9;/;0;2;;;B;2;4;B;5;7;/;0;2查看分类表>
申请人	天津大学	申请人地址	天津市南开区卫津路92号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	天津大学	当前权利人	天津大学
发明人	林彬;黄田;张晓峰;李凯隆;李岩;柳鹏飞
代理机构	天津才智专利商标代理有限公司	代理人	庞学欣

摘要

一种中心供液小磨头抛光工具。其包括软质抛光垫、海绵夹层、抛光盘、连接杆、软管、柔性联轴器和电主轴；本发明效果：将四周供液改进为中心供液，中心区域抛光液供给充分，抛光液将大量加工热量及磨屑带离加工区域，软质抛光垫表面磨损状况要明显优于传统小磨头抛光工具。因此，能够改善软质抛光垫的抗磨性，并将软质抛光垫的使用寿命提高4倍以上，减少软质抛光垫更换频率，降低生产成本。抛光液从工具中心向四周进行供给，相对于四周供液，整个加工区域内磨粒供给更加充分、均匀，磨粒的更新速度也更加稳定，从而使软质抛光垫磨损情况得到很大改善。因此，中心供液小磨头抛光工具在整个加工周期内材料去除效率更加稳定，面形控制能力更强。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供