改善静电累积的方法及系统

发明专利有效专利

申请号：
CN202010439801.3
IPC分类号：H05F3/06;H05F3/00
申请日期：
2020-05-22
申请人：
TCL华星光电技术有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	改善静电累积的方法及系统
申请号	CN202010439801.3	申请日期	2020-05-22
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2020-08-18	公开/公告号	CN111556638A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H05F3/06 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H05 其他类目不包含的电技术 H05F 静电；自然发生的电 H05F3/00 引走静电电荷的（从生物上引走的入A61N 1/14） H05F3/06 用电离辐射的	IPC分类号	H;0;5;F;3;/;0;6;;;H;0;5;F;3;/;0;0查看分类表>
申请人	TCL华星光电技术有限公司	申请人地址	广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	TCL华星光电技术有限公司	当前权利人	TCL华星光电技术有限公司
发明人	汪正和;王俊俊;徐凯;孙伟兵
代理机构	深圳紫藤知识产权代理有限公司	代理人	刁文魁

摘要

本发明公开一种改善静电累积的方法及系统。所述方法包含下列步骤：使用至少一离子风棒去除一彩膜基板上的静电；测试所述离子风棒的效果；对所述离子风棒进行管理上线；以及控制湿度介于55％至60％。所述系统包含至少一制程站点，包含一第一制程站点及一第二制程站点；一传动机构，包含至少一夹持单元，用于夹住并自动化传送所述彩膜基板从所述第一制程站点到所述第二制程站点；以及至少一离子风棒，设置在所述第一制程站点及所述第二制程站点中的每一个，其中所述夹持单元的材料是导电的。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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