一种防翘曲的蒸镀掩模板机构

1.一种防翘曲的蒸镀掩模板机构，其特征在于，具有：
支撑机构，能够支撑掩模板；
磁场激发装置，设置在所述掩模板的下方；
所述磁场激发装置包括安装板和电磁感应线圈，所述安装板共有两个，所述电磁感应线圈的两端分别与两个安装板连接；所述安装板的不同位置处设有一系列的电磁感应线圈。
2.如权利要求1所述的防翘曲的蒸镀掩模板机构，其特征在于，每个电磁感应线圈均通过独立的线路与电源连接。
3.如权利要求2所述的防翘曲的蒸镀掩模板机构，其特征在于，所述支撑机构为支撑板，所述掩模板的边缘放置在所述支撑板上。
4.如权利要求3所述的防翘曲的蒸镀掩模板机构，其特征在于，所述支撑板共有两个，两个支撑板分别设置在所述掩模板的两侧。

一种防翘曲的蒸镀掩模板机构\n技术领域\n[0001] 本实用新型属于半导体技术领域，尤其涉及一种防翘曲的蒸镀掩模板机构。\n背景技术\n[0002] 随着半导体产业蓬勃发展，半导体IC和半导体器件已经在各行各业广泛使用，无\n论从手机数码产品、卫星通信、信息工业至普通家用产品、小家电等，同时伴随着半导体产业的迅猛发展，人们的生活愈来愈便捷和智能。\n[0003] 半导体产业在发展的过程中，分工逐渐精细，而半导体蒸镀产业在半导体产品中\n占据着非常重要的一个环节，它直接决定半导体电子器件的品质以及使用寿命。\n[0004] 在实现本实用新型的过程中，发明人发现现有技术至少存在以下问题：在蒸镀过\n程中，有机层一般采用高度真空蒸镀工艺进行沉积，如下图所示。在蒸镀过程中，不可避免的会在掩模板(以下简称mask)开口区周边产生蒸镀阴影区(以下简称shadow)，且mask由于\n自身重力的原因，随着使用时间的增加，会不可避免的产生翘曲，这样会加重shadow现象，也让超高PPI变得不现实。\n实用新型内容\n[0005] 本实用新型所要解决的技术问题是提供一种可以抵消掩模板自身的重力导致的\n掩模板翘曲以及后续蒸镀过程的阴影问题的防翘曲的蒸镀掩模板机构\n[0006] 为了解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：一种防翘曲的蒸镀掩\n模板机构，具有：\n[0007] 支撑机构，能够支撑掩模板；\n[0008] 磁场激发装置，设置在所述掩模板的下方；\n[0009] 所述磁场激发装置包括安装板和电磁感应线圈，所述安装板共有两个，所述电磁\n感应线圈的两端分别与两个安装板连接；所述安装板的不同位置处设有一系列的电磁感应\n线圈。\n[0010] 每个电磁感应线圈均通过独立的线路与电源连接。\n[0011] 所述支撑机构为支撑板，所述掩模板的边缘放置在所述支撑板上。\n[0012] 所述支撑板共有两个，两个支撑板分别设置在所述掩模板的两侧。\n[0013] 上述技术方案中的一个技术方案具有如下优点或有益效果，通过在掩模板下方增\n设了电磁感应线圈，利用电磁感应的原理可以实现对掩模板(mask)的分区微调，可以抵消\n掩模板自身的重力导致的掩模板翘曲以及后续蒸镀过程的shadow问题。\n附图说明\n[0014] 图1为本实用新型实施例中提供的防翘曲的蒸镀掩模板机构的结构示意图；\n[0015] 上述图中的标记均为：1、掩模板，2、支撑机构，3、安装板，4、电磁感应线圈，5、线路。\n具体实施方式\n[0016] 下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行\n清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下\n所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。\n[0017] 参见图1，一种防翘曲的蒸镀掩模板机构，具有：\n[0018] 支撑机构，能够支撑掩模板；磁场激发装置，设置在掩模板的下方；在蒸镀机台下台添加了磁场激发装置，在进行蒸镀工艺之前，可以通过发射磁场，产生磁性作用力，来向掩模板施加向上的作用力，起到抵消掩模板自身的重力作用，从而达到防翘曲的目的。如图\n1所示，其中虚线为理想的掩模板的位置，实线为存在翘曲情况下掩模板的位置。\n[0019] 磁场激发装置包括安装板和电磁感应线圈，安装板共有两个，电磁感应线圈的两\n端分别与两个安装板连接；安装板的不同位置处设有一系列的电磁感应线圈。磁场激发装\n置由多个磁性线圈组成，每个磁性线圈的电流大小可以分别控制，这样可以针对不同位置，调节不同的磁场强度，从而最终分区控制掩模板的磁性作用力大小，达到精准控制防翘曲\n的目的。\n[0020] 每个电磁感应线圈均通过独立的线路与电源连接，并通过电路和控制器单独控制\n每个电磁感应线圈工作，从而针对不同位置，调节不同的磁场强度，从而最终分区控制掩模板的磁性作用力大小，达到精准控制防翘曲的目的。同时还可以通过控制器控制流过电磁\n感应线圈的电流大小，从而控制作用力的大小。\n[0021] 支撑机构为支撑板，掩模板的边缘放置在支撑板上。支撑板共有两个，两个支撑板分别设置在掩模板的两侧。两侧支撑，中部通过磁场激发装置作用。通过在蒸镀mask下方添加磁场激发装置的想法，利用电磁感应力，实现对mask的分区精准控制，通过抵消mask的自身重力，实现防止蒸镀mask翘曲及有效减弱shadow现象。\n[0022] 采用上述的结构后，通过在掩模板下方增设了电磁感应线圈，利用电磁感应的原\n理可以实现对掩模板(mask)的分区微调，可以抵消掩模板自身的重力导致的掩模板翘曲以\n及后续蒸镀过程的shadow问题。\n[0023] 在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“同轴”、“底部”、“一端”、“顶部”、“中部”、“另一端”、“上”、“一侧”、“顶部”、“内”、“前部”、“中央”、“两端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是\n指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能\n理解为对本实用新型的限制。\n[0024] 在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置”、“连接”、“固定”、“旋接”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；\n可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定，对于本领域的\n普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。\n[0025] 尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，\n可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修\n改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。