外槽液位指示型的化学处理槽

1、一种外槽液位指示型的化学处理槽，至少包括：
一内槽；
一外槽连接于该内槽，借以存放溢出该内槽的一化学处理液；以及
一连通导管装置连结于该外槽，借以可由该连通导管装置以目视方式观测 出该化学处理液的一液面位置。
2、如权利要求1所述的外槽液位指示型的化学处理槽，其中所述的连通 导管装置具有多个液面标示，且这些液面标示至少包括：
一溢出液面指示；
一循环液面指示；以及
一过低液面指示。
3、如权利要求1所述的外槽液位指示型的化学处理槽，其中所述的连通 导管装置由透明的聚氟烷氧所制成，借以构成透明、并耐该化学处理液的连通 导管装置。
4、如权利要求1所述的外槽液位指示型的化学处理槽，还包括具有连接 于该内槽的一输入管路，借以导入该化学处理液，且具有连接于该外槽的一输 出管路，借以排出该化学处理液。
5、如权利要求4所述的外槽液位指示型的化学处理槽，还包括具有连接 于该输出管路与该输入管路的一泵、一加热器、与一过滤器，借以使得该外槽 的该化学处理液由该输出管路排出后，经由该泵加压、该加热器加热以及该过 滤器过滤，可由该输入管路循环回该内槽中。
6、如权利要求1所述的外槽液位指示型的化学处理槽，还包括连接一氮 气液面传感器以检测该化学处理液的该液面位置。
7、如权利要求1所述的外槽液位指示型的化学处理槽，为用于包括晶圆 洗净步骤与湿蚀刻步骤等半导体湿制程。

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