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基板的处理方法、电子器件的制造方法和程序

发明专利有效专利

申请号：
CN200610007477.8
IPC分类号：H01L21/3105;H01L21/768
申请日期：
2006-02-14
申请人：
东京毅力科创株式会社

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	基板的处理方法、电子器件的制造方法和程序
申请号	CN200610007477.8	申请日期	2006-02-14
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2006-08-23	公开/公告号	CN1822326
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/3105 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕 H01L21/02 半导体器件或其部件的制造或处理〔2，8〕 H01L21/04 至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件，例如PN结、耗尽层、载体集结层〔2〕 H01L21/18 器件有由周期表Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体，如掺杂材料〔2，6，7〕 H01L21/30 用H01L 21/20至H01L 21/26各组不包含的方法或设备处理半导体材料的（在半导体材料上制作电极的入H01L 21/28）〔2〕 H01L21/31 在半导体材料上形成绝缘层的，例如用于掩膜的或应用光刻技术的（密封层入H01L 21/56）；以及这些层的后处理；这些层的材料的选择〔2，5〕 H01L21/3105 后处理〔5〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;3;1;0;5;;;H;0;1;L;2;1;/;7;6;8查看分类表>
申请人	东京毅力科创株式会社	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东京毅力科创株式会社	当前权利人	东京毅力科创株式会社
发明人	西村荣一;岩﨑贤也
代理机构	北京尚诚知识产权代理有限公司	代理人	龙淳;邸万杰

摘要

本发明提供一种基板的处理方法，该基板具有含碳的低介电常数绝缘膜，该低介电常数绝缘膜具有碳浓度降低的表面损伤层，其包括：将所述表面损伤层在规定压力下暴露于含有氨和氟化氢的混合气体的气氛中的表面损伤层暴露步骤；以及将暴露于所述混合气体气氛中的表面损伤层加热到规定温度的表面损伤层加热步骤。

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