加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

等离子体处理装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201610055894.3
  • IPC分类号:H01J37/32
  • 申请日期:
    2016-01-27
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称等离子体处理装置
申请号CN201610055894.3申请日期2016-01-27
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-08-03公开/公告号CN105826155A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J37/32IPC分类号H;0;1;J;3;7;/;3;2查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社
发明人出口新悟;山田洋平
代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司代理人龙淳;王雪燕
摘要
本发明提供在确保机械强度的同时,利用比较轻量的机构安装有金属窗的等离子体处理装置。在进行了真空排气的处理空间(100)内对被处理基板(G)执行等离子体处理的等离子体处理装置(1)中,金属制的处理容器(10)具有被处理基板(G)的载置台,在封闭形成于其上表面的开口的位置隔着绝缘部件(31)设置有导电性的金属窗(3)。上述金属窗(3)被配置于等离子体产生用的等离子体天线(5)的上方侧的顶板部(61)悬挂支承。并且,该顶板部(61)被具有横架部(71、711)和脚柱部(72)的骨架结构的顶板支承机构(7)悬挂支承。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供