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光栅波导多微流道芯片的制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010053995.3
  • IPC分类号:B01L3/00;G01N21/64
  • 申请日期:
    2020-01-17
  • 申请人:
    上海新微技术研发中心有限公司
著录项信息
专利名称光栅波导多微流道芯片的制造方法
申请号CN202010053995.3申请日期2020-01-17
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-06-05公开/公告号CN111229341A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B01L3/00IPC分类号B;0;1;L;3;/;0;0;;;G;0;1;N;2;1;/;6;4查看分类表>
申请人上海新微技术研发中心有限公司申请人地址
上海市嘉定区城北路235号1号楼 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海新微技术研发中心有限公司当前权利人上海新微技术研发中心有限公司
发明人陈昌;刘博;豆传国
代理机构苏州国卓知识产权代理有限公司代理人黄少波
摘要
本发明提供一种光栅波导多微流道芯片的制造方法,包括提供衬底,形成牺牲层,形成下包层;形成波导层;形成光栅波导组,包括光栅波导;光栅波导包括出射光栅;在波导层上形成二氧化硅保护层,用于覆盖保护出射光栅;形成上包层;形成第一数量的微流道,以形成微流体组;微流道贯穿上包层以暴露出保护层;出射光栅位于微流道下方用以将光沿垂直方向向上导入微流道内;去除牺牲层。具有有益效果:形成光波导与多微流道一体化矩阵的结构,通过多微流体通道和大规模矩阵化的光波导来实现比传统光学系统更高通量的分析性能,快速构建高通量生物样品的芯片级的片上光学检测分析系统,实现微纳尺度下的生物检测的高通量芯片。

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