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一种低温低成本高纯碳化硅超细微粒的制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201610371738.8
  • IPC分类号:C01B32/956
  • 申请日期:
    2016-05-31
  • 申请人:
    上海纳晶科技有限公司
著录项信息
专利名称一种低温低成本高纯碳化硅超细微粒的制备方法
申请号CN201610371738.8申请日期2016-05-31
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2016-10-26公开/公告号CN106044774A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C01B32/956IPC分类号C;0;1;B;3;2;/;9;5;6查看分类表>
申请人上海纳晶科技有限公司申请人地址
上海市普陀区中山北路3663号理科大楼A605 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海纳晶科技有限公司当前权利人上海纳晶科技有限公司
发明人张哲娟;孙卓
代理机构北京连城创新知识产权代理有限公司代理人刘伍堂
摘要
本发明涉及半导体和太阳能硅材料技术领域,具体地说是一种低温低成本高纯碳化硅超细微粒的制备方法,选取切割废料,通过抽真空,通入氩气,保压升温,通入混合气体,第二次保压升温,预处理,第三次保压升温,保温抽真空,保压降温的手段,制备碳化硅粉体。本发明同现有技术相比,采用传统工艺烧结制备高纯碳化硅时,需要收集后进行二次煅烧和提纯,尺寸不均匀、一致性较差,且成本较高。本发明为一步法实现全碳化的制备工艺,无需烧结后的分选、提纯和二次回烧处理。本发明不需要除水过程,还可借助水合硅微粒或含水超细高纯硅微粒的疏松结构优势,实现低温碳化工艺处理,大幅提高现有技术制备碳化硅微粒的效率和质量。

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