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光栅基板及其制作方法、显示装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201410253654.5
  • IPC分类号:G06F3/041
  • 申请日期:
    2014-06-09
  • 申请人:
    京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
著录项信息
专利名称光栅基板及其制作方法、显示装置
申请号CN201410253654.5申请日期2014-06-09
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2014-10-29公开/公告号CN104123036A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G06F3/041IPC分类号G;0;6;F;3;/;0;4;1查看分类表>
申请人京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
发明人李宏伟;李凡
代理机构北京路浩知识产权代理有限公司代理人李迪
摘要
本发明涉及显示技术领域,公开了一种光栅基板制作方法,包括以下步骤:在衬底基板上形成梳状、不透明的触控电极的阵列,且使阵列中第一触控电极通过第一导电桥连接在一起;形成绝缘间隔层,使其覆盖所述第一导电桥;在所述绝缘间隔层上形成第二导电桥将阵列中的第二触控电极连接在一起。还公开了一种光栅基板及显示装置。本发明通过将触控电极制作成不透明的梳状电极的图形,既能作为触控电极又能作为3D光栅,同时实现了触摸和3D功能。

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