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基于非下采样Contourlet域MRF模型的SAR图像降斑方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010267505.6
  • IPC分类号:G06T5/00;G01S13/90
  • 申请日期:
    2010-08-30
  • 申请人:
    西安电子科技大学
著录项信息
专利名称基于非下采样Contourlet域MRF模型的SAR图像降斑方法
申请号CN201010267505.6申请日期2010-08-30
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2011-01-19公开/公告号CN101950413A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G06T5/00IPC分类号G;0;6;T;5;/;0;0;;;G;0;1;S;1;3;/;9;0查看分类表>
申请人西安电子科技大学申请人地址
陕西省西安市太白南路2号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人西安电子科技大学当前权利人西安电子科技大学
发明人侯彪;焦李成;王倩;王爽;张向荣;马文萍
代理机构陕西电子工业专利中心代理人王品华;朱红星
摘要
本发明公开了一种基于非下采样Contourlet域MRF模型的SAR图像降斑方法,主要解决传统多尺度几何分析应用于SAR图像降斑易产生匀质区域不够光滑,细节信息不够完整,点目标不够清晰的问题。其降斑过程为:对待降斑SAR图像作对数运算,得到图像数据;对图像数据进行非下采样Contourlet变换,得到变换系数Cj,l;估计图像数据噪声在非下采样Contourlet域的标准差σj,l;根据Cj,l和σj,l对掩码Xj,l进行初始估计并迭代更新,得到Xj,l的最终估计;利用Xj,l的最终估计,对Cj,l进行收缩,得到估计系数Yj,l;对Yj,l作指数运算,并对其进行非下采样Contourlet逆变换,得到最终的降斑图像。本发明具有降斑结果同质区域光滑,纹理信息和边缘信息的完整性保持较好,以及点目标清晰可见,可用于SAR图像目标识别。

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