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适用于精细雾化CMP的一种碱性二氧化硅抛光液

发明专利无效专利

申请号：
CN201110073546.6
IPC分类号：C09G1/02C09K3/14H01L21/3105
申请日期：
2011-03-25
申请人：
江南大学

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法律信息

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著录项信息

专利名称	适用于精细雾化CMP的一种碱性二氧化硅抛光液
申请号	CN201110073546.6	申请日期	2011-03-25
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2011-09-07	公开/公告号	CN102174295A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09G1/02 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09G 虫胶清漆除外的抛光组合物；滑雪屐蜡 C09G1/00 抛光组合物（虫胶清漆入C09F 11/00；洗涤剂入C11D） C09G1/02 含有磨料或研磨剂	IPC分类号	C09G1/02;C09K3/14;H01L21/3105查看分类表>
申请人	江南大学	申请人地址	江苏省无锡市滨湖区蠡湖大道18*** 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	江南大学	当前权利人	江南大学
发明人	李庆忠;翟靖
代理机构	无锡华源专利事务所（普通合伙）	代理人	聂汉钦

摘要

本发明公开了适用于精细雾化CMP的一种碱性二氧化硅抛光液，其特征在于包括二氧化硅、氧化剂、表面活性剂，所述氧化剂为过氧化氢溶液，所述表面活性剂为聚乙二醇，所述二氧化硅的质量百分比为28%-32%，所述氧化剂的质量百分比为1%-3%，所述表面活性剂的质量百分比为1.5%-3.5%，所述二氧化硅包括硅溶胶和白碳黑，所述二氧化硅抛光液的pH值为9.5-11.5。本发明通过实验研究和分析，得到了适合雾化抛光工艺的SiO2抛光液。

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