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半导体装置和制造半导体装置的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510524877.5
  • IPC分类号:H01L23/48;H01L23/488;H01L21/60
  • 申请日期:
    2015-08-25
  • 申请人:
    三星电子株式会社
著录项信息
专利名称半导体装置和制造半导体装置的方法
申请号CN201510524877.5申请日期2015-08-25
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-03-09公开/公告号CN105390464A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L23/48IPC分类号H;0;1;L;2;3;/;4;8;;;H;0;1;L;2;3;/;4;8;8;;;H;0;1;L;2;1;/;6;0查看分类表>
申请人三星电子株式会社申请人地址
韩国京畿道水原市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人三星电子株式会社当前权利人三星电子株式会社
发明人崔永焕;黄泰周;闵台洪;池永根;韩相旭
代理机构北京铭硕知识产权代理有限公司代理人尹淑梅
摘要
提供了半导体装置和制造半导体装置的方法。所述半导体装置包括:至少第一半导体芯片和第二半导体芯片,沿第一方向彼此堆叠;至少一个硅通孔(TSV),至少穿过第一半导体芯片和第二半导体芯片中的第一半导体芯片;接触焊盘,位于第一半导体芯片的所述至少一个TSV上,接触焊盘将第一半导体芯片的TSV电连接到第二半导体芯片;多个虚设焊盘,位于第一半导体芯片上,所述多个虚设焊盘沿第二方向彼此分隔开并且沿第二方向与接触焊盘分隔开,虚设焊盘与接触焊盘在各自的顶表面与底表面之间沿第一方向测量的高度相同。

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