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阵列基板及其制备方法、显示装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201710042420.X
  • IPC分类号:H01L21/84;H01L27/12
  • 申请日期:
    2017-01-20
  • 申请人:
    京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
著录项信息
专利名称阵列基板及其制备方法、显示装置
申请号CN201710042420.X申请日期2017-01-20
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2017-05-10公开/公告号CN106653698A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/84
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;8;4;;;H;0;1;L;2;7;/;1;2查看分类表>
申请人京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
发明人贾丕健;郝昭慧;李琳;孟令琦;石虎兆
代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司代理人柴亮;张天舒
摘要
本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,属于阵列基板技术领域,其可至少部分解决现有的阵列基板容易因为像素电极的偏移产生显示异常的问题。本发明的阵列基板制备方法包括依次形成公共电极线、第一绝缘层、像素电极、第二绝缘层的步骤,以及形成连通至所述公共电极线的过孔的步骤,且在形成所述过孔后还包括:通过构图工艺形成覆盖所述过孔的公共电极,该构图工艺包括对覆盖有所述公共电极的过孔的一部分进行刻蚀以形成隔离区;所述隔离区包括所述过孔的第一边缘内侧的区域,所述第一边缘为所述过孔与像素电极相邻或叠置的边缘,所述过孔还包括不与所述像素电极相邻也不与所述像素电极叠置的第二边缘。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供