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发光装置及投影系统

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201320097997.8
  • IPC分类号:G03B21/20;G03B21/00;G02B27/09;F21V13/00
  • 申请日期:
    2013-03-04
  • 申请人:
    深圳市绎立锐光科技开发有限公司
著录项信息
专利名称发光装置及投影系统
申请号CN201320097997.8申请日期2013-03-04
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03B21/20IPC分类号G;0;3;B;2;1;/;2;0;;;G;0;3;B;2;1;/;0;0;;;G;0;2;B;2;7;/;0;9;;;F;2;1;V;1;3;/;0;0查看分类表>
申请人深圳市绎立锐光科技开发有限公司申请人地址
广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦21楼、22楼 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人深圳光峰科技股份有限公司,深圳市光峰科技股份有限公司当前权利人深圳光峰科技股份有限公司,深圳市光峰科技股份有限公司
发明人胡飞
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本实用新型实施例公开了一种发光装置及投影系统,包括:第一激光光源;第二激光光源;光路调节装置接收同方向入射的第一激光和第二激光并沿不同光路出射;第一透镜接收光路调节装置出射的第一激光聚焦至波长转换装置;与第一透镜相同的第二透镜,接收光路调节装置出射的第二激光聚焦至散射装置;波长转换装置将第一激光转换为受激光出射至第一透镜;散射装置对该第二激光进行散射后出射至第一透镜;波长转换装置到第一透镜的光程与散射装置到第二透镜的光程相等,且第一透镜、第二透镜到光路调节装置的光程相等,第一透镜出射的受激光与第二透镜出射的第二激光经光路调节装置后光路重合。本实用新型提供一种混合较均匀并且结构紧凑的发光装置及投影系统。

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