基于分子砌块合成规划技术的小分子从头设计方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202211137435.1
IPC分类号：G16C20/50;G16C20/10
申请日期：
2022-09-19
申请人：
杭州生奥信息技术有限公司

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著录项信息

专利名称	基于分子砌块合成规划技术的小分子从头设计方法
申请号	CN202211137435.1	申请日期	2022-09-19
法律状态	公开	申报国家	中国
公开/公告日	2022-10-25	公开/公告号	CN115240788A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G16C20/50	IPC分类号	G;1;6;C;2;0;/;5;0;;;G;1;6;C;2;0;/;1;0查看分类表>
申请人	杭州生奥信息技术有限公司	申请人地址	浙江省杭州市临平区东湖街道临平大道502号1幢3楼322室变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	杭州生奥信息技术有限公司	当前权利人	杭州生奥信息技术有限公司
发明人	居斌;姜菁;梅琪
代理机构	杭州裕阳联合专利代理有限公司	代理人	金方玮

摘要

本发明公开了一种基于分子砌块合成规划技术的小分子从头设计方法，包含将起始分子砌块作为第一个反应物,根据第一个反应物得到最佳合成模板；根据第一个反应物和最佳合成模板得到第二个反应物；根据第一反应物、第二个反应物和最佳合成模板得到第一评分值；根据第一反应物、第二个反应物和最佳合成模板得到迭代分子结构；根据迭代分子结构得到第二评分结果和是否停止操作的done标志；根据迭代分子结构进行反向传播进行参数迭代更新。本发明的基于分子砌块合成规划技术的小分子从头设计方法，采用边计算分子砌块合成路径边采样活性分子空间的de novo方法，可实现高效计算高活性分子，并提供基于分子砌块的分子合成路径。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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