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一种阵列基板、其制作方法及显示装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010113079.4
  • IPC分类号:H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32
  • 申请日期:
    2020-02-24
  • 申请人:
    合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
著录项信息
专利名称一种阵列基板、其制作方法及显示装置
申请号CN202010113079.4申请日期2020-02-24
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-06-19公开/公告号CN111312724A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/12IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;2;;;H;0;1;L;2;1;/;7;7;;;H;0;1;L;2;7;/;3;2查看分类表>
申请人合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请人地址
安徽省合肥市新站区工业园内 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人合肥鑫晟光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司当前权利人合肥鑫晟光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
发明人胡迎宾;赵策;丁远奎;王庆贺;刘宁;宋嘉文;宋威;闫梁臣
代理机构北京同达信恒知识产权代理有限公司代理人刘源
摘要
本发明公开了一种阵列基板、其制作方法及显示装置,包括位于衬底基板上的栅绝缘层、栅线和开关晶体管;栅绝缘层包括:覆盖栅线的第一分部,以及覆盖开关晶体管的栅极的第二分部;第一分部的边缘与栅线的边缘之间的第一间距,大于第二分部的边缘与开关晶体管的栅极边缘之间的第二间距,相当于栅绝缘层在开关晶体管区的GI tail不变,在栅线区的GI tail增大,后续层间介质层连续完成两次爬坡的过程中,因栅绝缘层的边缘与栅线的边缘距离较大,致使层间介质层不易出现褶皱现象,后续源漏金属层就不会因褶皱的存在而变薄或出现尖端,从而能够很好的改善DGS不良,同时开关晶体管结构无改变,确保了无新增不良,提高了产品良率。

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