具有低压力歧管的高压力注射模制喷嘴

发明专利有效专利

申请号：
CN200880113761.0
IPC分类号：B29C45/03
申请日期：
2008-06-20
申请人：
赫斯基注射器成型系统有限公司

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专利名称	具有低压力歧管的高压力注射模制喷嘴
申请号	CN200880113761.0	申请日期	2008-06-20
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2010-09-22	公开/公告号	CN101842211A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B29C45/03 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B29 塑料的加工；一般处于塑性状态物质的加工 B29C 塑料的成型或连接；塑性状态材料的成型，不包含在其他类目中的；已成型产品的后处理，例如修整（制作预型件入B29B 11/00；通过将原本不相连接的层结合成为各层连在一起的产品来制造层状产品入B32B 7/00至B32B 41/00）〔4〕 B29C45/00 注射成型，即迫使所需成型材料容量通过注口进入闭合的模型；所用的设备（注射吹塑法入B29C 49/06）〔4〕 B29C45/03 注射成型设备（传递成型入B29C 45/02）〔4〕	IPC分类号	B;2;9;C;4;5;/;0;3查看分类表>
申请人	赫斯基注射器成型系统有限公司	申请人地址	加拿大安大略省变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	赫斯基注射器成型系统有限公司	当前权利人	赫斯基注射器成型系统有限公司
发明人	爱德华·约瑟夫·延科
代理机构	北京律盟知识产权代理有限责任公司	代理人	孟锐

摘要

本发明提供一种模制系统，其包括：低压力源，其用于在低压力下准备熔融物，熔融物将在较高的高压力下注射到模具中；歧管，其与源连接；以及注射设备，其与歧管连接，注射设备与模腔连接，注射设备经配置以：(i)在高压力下将熔融物注射到模腔中；且(ii)计量熔融物，注射设备包括：外壳，其界定柱塞腔；可选择性关闭的阀，其位于歧管与柱塞腔的中间，在打开位置中，柱塞腔变得填充有所述熔融物，且在关闭位置中，位于柱塞腔中的熔融物变得与位于源中的熔融物隔离；柱塞，其可在柱塞腔内移动，所述柱塞将在阀被放置于关闭位置中之后被向前驱动；以及喷嘴，其具有注射出口，喷嘴从柱塞腔接收熔融物，喷嘴可与模腔连接，柱塞腔接近于所述喷嘴的所述注射出口。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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