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不可见光遮蔽结构

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201721590712.9
IPC分类号：G02B5/20;B32B15/04;B32B9/04;B32B33/00
申请日期：
2017-11-24
申请人：
奈星科技股份有限公司

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	不可见光遮蔽结构
申请号	CN201721590712.9	申请日期	2017-11-24
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B5/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B5/00 除透镜外的光学元件（光波导入G02B 6/00；光学逻辑元件入G02F 3/00）〔4〕 G02B5/20 滤光片（偏振元件入G02B 5/30；特别用于摄影目的滤光片入G03B 11/00）	IPC分类号	G;0;2;B;5;/;2;0;;;B;3;2;B;1;5;/;0;4;;;B;3;2;B;9;/;0;4;;;B;3;2;B;3;3;/;0;0查看分类表>
申请人	奈星科技股份有限公司	申请人地址	中国台湾高雄市前镇区新生路248之23号4楼变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	奈星科技股份有限公司	当前权利人	奈星科技股份有限公司
发明人	卢鸿华;陈文复;陈文亮;赖盈宪
代理机构	北京中誉威圣知识产权代理有限公司	代理人	席勇;周勇

摘要

本实用新型公开了一种不可见光遮蔽结构，其包含第一透明基板、金属层、透明保护层以及氧化钨铯不可见光遮蔽单元。金属层设置在第一透明基板的一侧；透明保护层设置在金属层远离第一透明基板的一侧；以及氧化钨铯不可见光遮蔽单元设置在透明保护层远离第一透明基板的一侧。借此，本实用新型的不可见光遮蔽结构，可有效遮挡不可见光。

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