加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

目标布置的优化和相关的目标

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201580009522.0
  • IPC分类号:G03F7/20;G01N21/93;G01N21/956
  • 申请日期:
    2015-01-29
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称目标布置的优化和相关的目标
申请号CN201580009522.0申请日期2015-01-29
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-10-12公开/公告号CN106030414A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;1;N;2;1;/;9;3;;;G;0;1;N;2;1;/;9;5;6查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维德霍温 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人H·W·M·范布尔;J·M·M·拜欧特曼;柳星兰;H·J·H·斯米尔蒂;R·J·F·范哈恩
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人张启程
摘要
公开了一种设计目标布置的方法,以及相关的目标和掩模版。所述目标包括多个光栅,每个光栅包括多个子结构。所述方法包括步骤:定义目标区域;将所述子结构定位在所述目标区域内,以便形成所述光栅;和在所述光栅周边处定位辅助特征,所述辅助特征配置成减小在所述光栅周边处的被测量的强度峰。所述方法可以包括优化过程,所述优化过程包括对通过使用量测过程检验所述目标而获得的所形成的图像进行模型化;和评价所述目标布置是否被针对于使用量测过程的检测进行优化。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供