配向膜转印版以及配向膜制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202010088015.3
IPC分类号：G02F1/1337
申请日期：
2020-02-12
申请人：
武汉华星光电技术有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	配向膜转印版以及配向膜制造方法
申请号	CN202010088015.3	申请日期	2020-02-12
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2020-07-03	公开/公告号	CN111367124A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/1337 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/1333 构造上的设备（G02F 1/135，G02F 1/136优先）〔5〕 G02F1/1337 液晶分子的表面诱导取向，例如借助列向层〔5〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;3;7查看分类表>
申请人	武汉华星光电技术有限公司	申请人地址	湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	武汉华星光电技术有限公司	当前权利人	武汉华星光电技术有限公司
发明人	吴咏波
代理机构	深圳紫藤知识产权代理有限公司	代理人	刁文魁

摘要

本申请提供一种配向膜转印版，其用于防止配向膜材料在盲孔中堆积，所述配向膜转印版包括基板、设置于基板上的第一网点和设置于所述第一网点周围的多个第二网点，所述第二网点在垂直于所述基板表面方向上的高度小于或者等于所述第一网点在垂直于所述基板表面方向上的高度，所述第一网点远离所述基板的一端具有阻挡部，所述第二网点远离所述基板的端面面积小于所述阻挡部远离所述基板的端面面积。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供