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光刻装置,器件制造方法和由此制造的器件

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200410059599.2
  • IPC分类号:G03F7/20;H01L21/00
  • 申请日期:
    2004-04-30
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称光刻装置,器件制造方法和由此制造的器件
申请号CN200410059599.2申请日期2004-04-30
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2004-12-01公开/公告号CN1550912
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维尔德霍芬 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人K·J·J·M·扎亚;T·A·R·范埃佩;J·J·奥坦斯
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人王波波
摘要
一种光刻投影装置,包括:用于提供辐射投射光束的辐射系统;用于支撑构图装置的支撑结构,该构图装置用于根据所需图案对投射光束进行构图;包括多个突起的基底保持器,多个突起的末端限定了用于支撑基本上平坦的基底的基本上平坦的支撑平面,所述基底保持器设有提供压力的装置,用于将基底压靠在突起的末端;设置在基底保持器的边缘区域的突起用于提供与按压装置的压力有关基底的基本上平坦的外伸;和用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统。该光刻投影装置的特征在于:所述突起在基底保持器离开边缘的区域内分布,以为所述多个突起的每个突起提供基本相等的支撑区域,所述支撑区域由与突起相关联的Voronoi图案分布限定。根据本发明的光刻装置提供具有减小的重叠和聚焦误差的基底保持器。

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