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光刻投射装置及用于所述装置中的反射器组件

发明专利无效专利

申请号：
CN03147046.7
IPC分类号：G03F7/20;H01L21/027
申请日期：
2003-08-25
申请人：
ASML荷兰有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	光刻投射装置及用于所述装置中的反射器组件
申请号	CN03147046.7	申请日期	2003-08-25
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2004-05-12	公开/公告号	CN1495532
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人	ASML荷兰有限公司	申请人地址	荷兰维尔德霍芬变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML荷兰有限公司	当前权利人	ASML荷兰有限公司
发明人	F·J·P·舒尔曼斯;L·P·巴克
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	王波波

摘要

本发明涉及一种光刻投射装置。在该光刻投射装置中使用了切线入射收集器。该切线入射收集器由多个反射镜组成。为减少收集器上的总热量，反射镜被涂覆。位于收集器外部的反射镜的外侧具有红外辐射层。内反射镜的外侧用EUV反射层涂覆。

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