一种用于晶体抛光的游星轮片

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201922312046.8
IPC分类号：B24B37/30
申请日期：
2019-12-20
申请人：
上海新漫晶体材料科技有限公司

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著录项信息

专利名称	一种用于晶体抛光的游星轮片
申请号	CN201922312046.8	申请日期	2019-12-20
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B37/30 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B37/00 研磨机床或装置；附件（B24B 3/00优先） B24B37/27 工件载体〔2012.01〕 B24B37/30 用于平面的单侧研磨〔2012.01〕	IPC分类号	B;2;4;B;3;7;/;3;0查看分类表>
申请人	上海新漫晶体材料科技有限公司	申请人地址	上海市嘉定区叶城路1611号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海新漫晶体材料科技有限公司	当前权利人	上海新漫晶体材料科技有限公司
发明人	丁言国;汪新伟;叶崇志
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本实用新型公开了用于晶体抛光的游星轮片，包括圆形基板、基板锯齿、加工工位、导流孔、晶片，待打磨抛光的晶片放置在加工工位中，基板锯齿通过与抛光设备的内外齿圈相啮合，带动游星轮片转动，从而使晶片一起转动，转动的过程中抛光液自上而下通过导流孔进入到晶片的上下表面，在上下两个抛光盘的作用下，实现对晶片上下两个晶面同时抛光，有效提高晶片的抛光效率，降低晶片的加工成本；具有抛光精度高，抛光效率高，导流孔能够有效避免晶片出现崩边的现象发生；加工工位采用轴对称形状均匀分布在圆形基板上，有利于圆形基板强度的均匀性，避免圆形基板在抛光的过程中因强度不均匀出现损坏的现象。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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