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曝光工艺及装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201110238077.9
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2011-08-18
  • 申请人:
    京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
著录项信息
专利名称曝光工艺及装置
申请号CN201110238077.9申请日期2011-08-18
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2012-08-08公开/公告号CN102629078A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
发明人隆清德
代理机构北京路浩知识产权代理有限公司代理人韩国胜;王莹
摘要
本发明属于曝光技术领域,公开了一种曝光工艺,将涂布有光刻胶的基板竖直设置,曝光用掩膜版与所述基板平行,使曝光机的光线照射方向垂直于所述掩膜版对所述光刻胶进行曝光。本发明还公开了一种曝光装置,包括固定被曝光基板的基板载台和固定掩膜版的掩膜版载台,所述基板载台竖直设置,所述掩膜版载台能够由水平面翻转至与所述基板载台平行。本发明中,将曝光方式由传统的水平曝光变更为垂直曝光方式,克服掩模板由于自身重力作用引起的形变,使曝光得到的图形整体形变减少;并且提高曝光得到的图形在后续制程中的整体对位精度,避免由于图形公差差别较大导致的漏光及亮度不均匀等不良现象。

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