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决定方法、光学装置、投影光学系统、曝光装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201711263246.8
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2017-12-05
  • 申请人:
    佳能株式会社
著录项信息
专利名称决定方法、光学装置、投影光学系统、曝光装置
申请号CN201711263246.8申请日期2017-12-05
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2018-06-29公开/公告号CN108227397A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人佳能株式会社申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人佳能株式会社当前权利人佳能株式会社
发明人井本浩平;堆浩太郎
代理机构中国贸促会专利商标事务所有限公司代理人孙蕾
摘要
本发明提供一种决定方法、光学装置、投影光学系统、曝光装置。该决定方法决定矩阵,该矩阵表示对光学元件施加力而使该光学元件变形的多个致动器各自的推力和设置有所述多个致动器的各个致动器的部位处的所述光学元件的位移之间的关系,该决定方法具有:第一工序,在以单位电流驱动所述多个致动器中的一个致动器时,取得分别在所述多个致动器中产生的电流的值和设置有所述多个致动器中的至少一个致动器的第一部位处的所述光学元件的位移;第二工序,根据在所述第一工序中取得的分别在所述多个致动器中产生的电流的值及所述第一部位处的所述光学元件的位移来决定所述矩阵。

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