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在晶圆上形成掺杂层的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010000251.1
  • IPC分类号:H01L21/265
  • 申请日期:
    2010-01-06
  • 申请人:
    台湾积体电路制造股份有限公司
著录项信息
专利名称在晶圆上形成掺杂层的方法
申请号CN201010000251.1申请日期2010-01-06
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2010-07-14公开/公告号CN101777490A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/265IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;2;6;5查看分类表>
申请人台湾积体电路制造股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人台湾积体电路制造股份有限公司当前权利人台湾积体电路制造股份有限公司
发明人林宥朋;游伟明;邓端永;林俊男;董胜健;苏斌嘉
代理机构北京康信知识产权代理有限责任公司代理人吴贵明
摘要
本发明提供一种在晶圆上形成掺杂层的方法,包括:提供一晶圆;供应一掺杂物气体于离子源的电弧室中;供应一稀释物以稀释掺杂物气体,上述稀释物包含约48%至约50%的氙分子和约50%至约52%的氢分子;从使用上述离子源的稀释的掺杂物气体产生一离子束;并且将此离子束射向晶圆,以在晶圆上形成一掺杂层。

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