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光学薄膜及其应用、光学薄膜的制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200710110326.X
IPC分类号：G02F1/13363
申请日期：
2005-11-18
申请人：
日东电工株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	光学薄膜及其应用、光学薄膜的制造方法
申请号	CN200710110326.X	申请日期	2005-11-18
法律状态	放弃专利权	申报国家	暂无
公开/公告日	2008-01-16	公开/公告号	CN101105610
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/13363 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/1333 构造上的设备（G02F 1/135，G02F 1/136优先）〔5〕 G02F1/1335 与液晶单元结构相连的光学装置，例如偏振器、反射器〔5〕 G02F1/13363 双折射元件，例如用于光学补偿的〔7〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;3;6;3查看分类表>
申请人	日东电工株式会社	申请人地址	日本大阪府变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	日东电工株式会社	当前权利人	日东电工株式会社
发明人	村上奈穗;吉见裕之
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	朱丹

摘要

本发明提供一种光学薄膜，其特征在于，是通过在透明高分子薄膜层上涂布聚氨基甲酸酯系树脂溶液形成粘附层并通过在该粘附层上涂布非液晶聚合物形成双折射层，从而作成层叠薄膜，进而对该层叠薄膜实施拉伸处理而成。由此，本发明提供一种透明高分子薄膜与双折射层剥离的可能性减少且双折射层的相位差的偏差少的光学薄膜。

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