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在旋涂装置中清洁的基板材料的底面和/或边缘的最佳暴露

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910616900.1
  • IPC分类号:G03F7/16
  • 申请日期:
    2019-07-09
  • 申请人:
    C&D半导体服务有限公司
著录项信息
专利名称在旋涂装置中清洁的基板材料的底面和/或边缘的最佳暴露
申请号CN201910616900.1申请日期2019-07-09
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2020-01-17公开/公告号CN110703561A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/16IPC分类号G;0;3;F;7;/;1;6查看分类表>
申请人C&D半导体服务有限公司申请人地址
美国加利福尼亚 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人C&D半导体服务有限公司当前权利人C&D半导体服务有限公司
发明人张坦;邓池;陈途;阮查理
代理机构北京鸿元知识产权代理有限公司代理人李琳;陈英俊
摘要
一种旋涂装置,包括:基底板;旋转卡盘,基板材料放置在所述旋转卡盘上;以及执行机构,所述执行机构使基底板与旋转卡盘接合,使得基底板与旋转卡盘一起同步旋转。基板材料包括涂覆有成膜物质的顶面、以及底面。清洁机构位于基底板的下方,并且在基底板接合的状态下未最佳暴露于基板材料的底面及其边缘。响应于配置成与基底板同步共同旋转的盖部的脱离,执行机构还配置成使基底板与旋转卡盘脱离,并且使清洁机构能够最佳暴露于基板材料的底面及其边缘。

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