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一种垂直结构的发光二极管

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201721719211.6
  • IPC分类号:H01L25/075;H01L33/06;H01L33/14;H01L33/20;H01L33/36
  • 申请日期:
    2017-12-08
  • 申请人:
    广东工业大学
著录项信息
专利名称一种垂直结构的发光二极管
申请号CN201721719211.6申请日期2017-12-08
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L25/075IPC分类号H;0;1;L;2;5;/;0;7;5;;;H;0;1;L;3;3;/;0;6;;;H;0;1;L;3;3;/;1;4;;;H;0;1;L;3;3;/;2;0;;;H;0;1;L;3;3;/;3;6查看分类表>
申请人广东工业大学申请人地址
广东省广州市番禺区大学城外环西路100号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人广东工业大学当前权利人广东工业大学
发明人何苗;王成民;赵韦人
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人王宝筠
摘要
本实用新型公开了一种垂直结构的发光二极管,该发光二极管包括:衬底;设置在衬底上的第一缓冲层、第二缓冲层、未掺杂GaN层、n型GaN层、多量子阱结构层、电子屏蔽层、p型GaN层、透明导电薄膜层;贯穿透明导电薄膜层、p型GaN层、电子屏蔽层、多量子阱结构层、n型GaN层,直至暴露出未掺杂GaN层的第一凹槽,第一凹槽的第一表面与衬底成预设角度,第一凹槽的第二表面与所述衬底垂直;沿着第一表面贯穿未掺杂GaN层、第二缓冲层、第一缓冲层、衬底的通孔;设置在第一表面以及通孔上的反光层、绝缘层、第一金属导电层;贯穿衬底、第一缓冲层、第二缓冲层,直至暴露出n型GaN层的第二凹槽。该发光二极管满足大功率照明要求。

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