曝光方法

发明专利有效专利

申请号：
CN02153821.2
IPC分类号：--
申请日期：
2002-11-28
申请人：
株式会社东芝

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	曝光方法
申请号	CN02153821.2	申请日期	2002-11-28
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2003-06-04	公开/公告号	CN1421746
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	株式会社东芝	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东芝存储器株式会社	当前权利人	东芝存储器株式会社
发明人	高桑真步;浅沼庆太;东木达彦
代理机构	北京市中咨律师事务所	代理人	于静;陈海红

摘要

使用扫描曝光装置，当在下层图形上重叠地形成上层图形之时，谋求提高重叠精度。在所用的各曝光装置，对控制晶片，检测各发射区内在扫描方向4个以上，而且步进方向4个以上矩阵排列形成的，多个标记位置信息的步骤；运算与从重叠层曝光使用的扫描曝光装置得到的标记位置信息的各坐标分量的差分的步骤；由算出的差分，求出各自表示透镜象差参数的步骤；以及根据由求出的参数获得的校正参数，进行上述重叠曝光的步骤。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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