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光刻装置和器件制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200410043180.8
  • IPC分类号:G03F7/20;H01L21/00
  • 申请日期:
    2004-05-13
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称光刻装置和器件制造方法
申请号CN200410043180.8申请日期2004-05-13
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2004-12-01公开/公告号CN1550905
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维尔德霍芬 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人B·斯特雷克;J·J·M·巴塞曼斯;H·H·M·科西;A·T·A·M·德克森;S·N·L·当德斯;C·A·胡根达姆;J·洛夫;E·R·鲁斯特拉;J·J·S·M·梅坦斯;F·范德穆伦;J·C·H·穆肯斯;G·P·M·范努恩;K·西蒙;B·A·斯拉赫克;A·斯特拉艾杰;J·-G·C·范德图恩;M·豪克斯
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人肖春京
摘要
一种光刻装置,其中将位于投影装置(PL)之下的基底表面的局部区域浸入液体中。使用致动器(314)可以改变基底(W)的表面之上的液体供给装置(310)的高度。控制装置将前馈或回馈控制用于基底(W)的表面高度的输入,以将液体供给装置(310)保持在位于基底(W)的表面之上的预定高度。

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