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一种消除闪光退火机台首十枚效应的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201610173408.8
  • IPC分类号:H01L21/67
  • 申请日期:
    2016-03-24
  • 申请人:
    上海华力微电子有限公司
著录项信息
专利名称一种消除闪光退火机台首十枚效应的方法
申请号CN201610173408.8申请日期2016-03-24
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-05-25公开/公告号CN105609451A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/67IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;7查看分类表>
申请人上海华力微电子有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江开发区高斯路568号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海华力微电子有限公司当前权利人上海华力微电子有限公司
发明人邱裕明;肖天金;余德钦
代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)代理人智云
摘要
一种消除闪光退火机台首十枚效应的方法,包括:步骤S1:将第一晶圆设置在工艺腔室内;步骤S2:通过设置在上方的闪光灯进行加热,通过设置在下面的卤素灯以第一温度进行预加热;步骤S3:闪光退火机台闲置,且卤素灯持续以第二温度进行预加热;步骤S4:将第二晶圆设置在工艺腔室内;步骤S5:通过设置在上方的闪光灯进行加热,通过设置在下面的卤素灯进行第一温度预加热。本发明通过卤素灯在闪光退火机台闲置时,以第二温度持续进行预加热,且预加热之第二温度所产生的能量为第二晶圆之卤素灯以第一温度进行预加热所产生能量的50%~100%,不仅可以稳定腔室内工艺环境,而且提高产品良率,避免人力资源的浪费。

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