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光刻设备、器件制造方法、及由此制造的器件

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200410082568.9
  • IPC分类号:G03F7/20;H01L21/00
  • 申请日期:
    2004-09-21
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称光刻设备、器件制造方法、及由此制造的器件
申请号CN200410082568.9申请日期2004-09-21
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2005-03-30公开/公告号CN1601386
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维尔德霍芬 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人H·布特勒
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人王波波
摘要
一种包含可移动物体的光刻设备。这些可移动物体的位置可以用位置控制系统来控制。位置控制系统包含位置控制器(6)、表示为物体滤波器(Ho)的物体、位置反馈电路(22)、以及加速控制系统(34)。加速控制系统(34)包含减法器(8)以及第一电路支路中的第一滤波器(Hf)和第二电路支路中的第二滤波器(Hs)。从位置控制器(6)输出的位置控制器信号(Fp),被输入到加速控制系统(34)的减法器(8)中。但外部干扰力(Fd)被直接施加在物体(Ho)上。于是,对位置控制器力(Fp)的从减法器(8)的输入到物体(Ho)的加速度的第一传递函数(G1)可以不同于对干扰力(Fd)的从物体(Ho)的输入到物体(Ho)的加速度的第二传递函数(G2)。

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