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一种可特异性调控的高通量超衍射极限焦斑生成装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010863941.3
  • IPC分类号:G02B27/48;G03F7/20
  • 申请日期:
    2020-08-25
  • 申请人:
    之江实验室
著录项信息
专利名称一种可特异性调控的高通量超衍射极限焦斑生成装置
申请号CN202010863941.3申请日期2020-08-25
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-12-04公开/公告号CN112034628A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B27/48IPC分类号G;0;2;B;2;7;/;4;8;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人之江实验室申请人地址
浙江省杭州市余杭区文一西路1818号人工智能小镇10号楼 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人之江实验室当前权利人之江实验室
发明人匡翠方;朱大钊;丁晨良;郝翔;刘旭
代理机构杭州求是专利事务所有限公司代理人邱启旺
摘要
本发明公开了一种可特异性调控的高通量超衍射极限焦斑生成装置,该装置首先生成用于产生高通量暗斑的激光,然后入射到加载衍射相位的空间调制器上,将光束分束为多路激光阵列,再将其入射到微透镜阵列上并聚焦,同时将光束阵列在微透镜阵列的傅里叶面上进行滤波,之后将光束阵列入射到高通量暗斑生成器件上进行相位调制,最后将光束阵列聚焦产生高通量的暗斑。本发明设计紧凑,集成度高;可以在生成大通量超衍射极限焦斑的同时实现对暗斑的高速特异性调控;可用于实现并行受激发射损耗显微成像和高通量双光束激光直写光刻,可实现并行系统的亚50nm分辨率,提升系统速度,保证激光直写加工速度和成像分辨率的同步稳定提升。

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