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共聚焦扫描式暗场显微成像方法与装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110547197.0
  • IPC分类号:G02B21/00
  • 申请日期:
    2021-05-19
  • 申请人:
    浙江大学
著录项信息
专利名称共聚焦扫描式暗场显微成像方法与装置
申请号CN202110547197.0申请日期2021-05-19
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2021-08-20公开/公告号CN113281891A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B21/00IPC分类号G;0;2;B;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人浙江大学申请人地址
浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人浙江大学当前权利人浙江大学
发明人匡翠方;邱宇轩;张宇森;刘旭
代理机构杭州求是专利事务所有限公司代理人刘静
摘要
本发明公开了一种共聚焦扫描式暗场显微成像方法与装置,该方法将激光器发出的激光光束的相位调制成0‑2nπ涡旋相位,其中n>3;将调制后的光束与共聚焦扫描显微镜的物镜入瞳共轭,使得物镜的聚焦光斑为空心光斑,且空心光斑内环半径大于不进行相位调制时的实心光斑半径;使共聚焦扫描显微镜工作,实现暗场显微成像。本发明采用共聚焦设计,在探测器前放置一个小孔,小孔所在平面与物面共轭,阻挡了离焦信号进入探测器,这种设计提高了成像的信噪比和分辨率,使暗场显微成像具有良好的层析能力。

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