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可调节式晶圆固定装置、方法及晶圆清洗平台

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201310746900.6
  • IPC分类号:H01L21/687;H01L21/67;B08B13/00
  • 申请日期:
    2013-12-30
  • 申请人:
    上海集成电路研发中心有限公司
著录项信息
专利名称可调节式晶圆固定装置、方法及晶圆清洗平台
申请号CN201310746900.6申请日期2013-12-30
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2014-04-09公开/公告号CN103715128A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/687IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;8;7;;;H;0;1;L;2;1;/;6;7;;;B;0;8;B;1;3;/;0;0查看分类表>
申请人上海集成电路研发中心有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江高斯路497号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海集成电路研发中心有限公司当前权利人上海集成电路研发中心有限公司
发明人厉心宇
代理机构上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)代理人吴世华;林彦之
摘要
本发明公开了一种可调节式晶圆固定装置、方法及晶圆清洗平台,包括:若干个固定销,用于固定晶圆,所述固定销可开合的安装于晶圆边缘;若干个弹性装置,所述各弹性装置与各固定销对应连接,用于控制各固定销的移动;电机,所述电机输出电流或电压,用于控制弹性装置的移动;还包括若干套力矩控制系统,所述各力矩控制系统的一端与各弹性装置连接,另一端与所述电机连接,通过力矩控制系统发出信号调控所述电机输出的电流或电压,使所述弹性装置产生正向或反向的位移,从而改变所述固定销的位置。本发明解决了现有晶圆固定装置因固定销以固定力矩固定晶圆,导致晶圆局部因力矩过大或过小而产生对晶圆损伤等问题。

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