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一种具有高抗辐照能力的四结太阳电池结构及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201811628885.4
  • IPC分类号:H01L31/0687;H01L31/0693;H01L31/054;H01L31/18
  • 申请日期:
    2018-12-28
  • 申请人:
    中国电子科技集团公司第十八研究所
著录项信息
专利名称一种具有高抗辐照能力的四结太阳电池结构及其制备方法
申请号CN201811628885.4申请日期2018-12-28
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2019-06-21公开/公告号CN109920874A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/0687
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;0;6;8;7;;;H;0;1;L;3;1;/;0;6;9;3;;;H;0;1;L;3;1;/;0;5;4;;;H;0;1;L;3;1;/;1;8查看分类表>
申请人中国电子科技集团公司第十八研究所申请人地址
天津市滨海新区滨海高新技术产业开发区华科七路6号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国电子科技集团公司第十八研究所当前权利人中国电子科技集团公司第十八研究所
发明人薛超;高鹏;姚立勇;姜明序;张无迪;刘丽蕊;王宇
代理机构北京国昊天诚知识产权代理有限公司代理人刘昕
摘要
本发明涉及一种具有高抗辐照能力的四结太阳电池结构及其制备方法,结构包括依次设置的金属薄膜衬底、高反射率金属层、介质层、薄型四结外延层;方法包括采用金属有机化学气相沉积技术制备薄型四结外延层;在外延片表面制备全方位反射器,采用等离子体增强化学气相沉积技术生长介质层,在介质层上腐蚀出周期性的微孔,在外延片表面蒸镀上高反射率的金属材料;采用电镀技术在全方位反射器表面制备金属薄膜衬底;通过化学腐蚀分别去掉砷化镓衬底和GaInP腐蚀停止层。本发明的有益效果:四个子电池的厚度大幅度减薄,大幅度降低了带电粒子辐射对四结电池的损失,减少了缺陷密度,提高了四结电池的抗辐照能力,从而促进四结电池在航天领域的应用。

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