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利用字组电压帮助双MONOS单元写入与抹除的方法及装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN01140214.8
  • IPC分类号:G11C7/20;G11C11/34;H01L27/10
  • 申请日期:
    2001-12-05
  • 申请人:
    哈罗大规模集成电路设计与装置技术公司
著录项信息
专利名称利用字组电压帮助双MONOS单元写入与抹除的方法及装置
申请号CN01140214.8申请日期2001-12-05
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2002-09-04公开/公告号CN1367490
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G11C7/20IPC分类号G;1;1;C;7;/;2;0;;;G;1;1;C;1;1;/;3;4;;;H;0;1;L;2;7;/;1;0查看分类表>
申请人哈罗大规模集成电路设计与装置技术公司申请人地址
美国纽约 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人哈娄利公司当前权利人哈娄利公司
发明人大仓世纪;大仓智子;齐藤智也
代理机构北京三友知识产权代理有限公司代理人马娅佳
摘要
在习知技术中,在位元散布端接上正偏压及在控制闸极接上负偏压,抹除双MONOS记忆体上的资料,另一字组闸极与基质端则接地,由于控制闸极通道长度较短,只有载体逸出长度的数倍,相邻于控制闸极的字组闸极通道之电压,会影响抹除的特性及速度,将字组闸极接上一负电压可增进抹除的速度,而字组闸极接上一正电压时,会降低抹除速度,藉有效的对记忆体阵列作偏压,在无区域损失的情况下,可抹除字组线或甚至是单一记忆体单元,与习知中藉三重井区或物理的区块阻隔来达到抹除区块,而在不需对基质作偏压及对字组线电压程式干扰保护下,抹除接近F-N通道亦包括于本发明中。

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