高功率激光衰减器

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201020293233.2
IPC分类号：G02F1/01;G02B1/10;G02B1/11
申请日期：
2010-08-17
申请人：
中国工程物理研究院激光聚变研究中心

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专利名称	高功率激光衰减器
申请号	CN201020293233.2	申请日期	2010-08-17
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/01 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;0;1;;;G;0;2;B;1;/;1;0;;;G;0;2;B;1;/;1;1查看分类表>
申请人	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	申请人地址	四川省绵阳市919信箱988分箱变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	当前权利人	中国工程物理研究院激光聚变研究中心
发明人	夏彦文;孙志红;刘华
代理机构	中国工程物理研究院专利中心	代理人	翟长明;韩志英

摘要

一种高功率激光衰减器。高功率激光衰减器由多个衰减板和多个光学遮光板组成；高功率激光入射到第一衰减板后被分成透射光和反射光，两路光经过反射后再入射到第四衰减板，反射光和透射光到达第四衰减板的光程相等；反射光和透射光经过第四衰减板后被分成两路光，再经反射后到达第七衰减板，经过第四衰减板分出的两路光到达第七衰减板的光程相等；根据入射激光衰减需求，在第一衰减板和第四衰减板之间的透射光或反射光光路中插入一块光学遮光板，同时在第四衰减板和第七衰减板之间的两路光的一路中插入另一块光学遮光板；光学遮光板采用阻挡光的不透明材料；衰减板的第一入射表面镀不同反射率的反射膜，第二入射表面镀增透膜。高功率激光衰减器性能稳定，结构简单，调节方便，可以实现大范围、无畸变的高倍率衰减。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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