有机抗反射涂料聚合物及其制备方法

发明专利无效专利

申请号：
CN00107858.5
IPC分类号：--
申请日期：
2000-06-26
申请人：
现代电子产业株式会社

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法律信息

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著录项信息

专利名称	有机抗反射涂料聚合物及其制备方法
申请号	CN00107858.5	申请日期	2000-06-26
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2001-04-11	公开/公告号	CN1290713
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	现代电子产业株式会社	申请人地址	韩国京畿道变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	现代电子产业株式会社	当前权利人	现代电子产业株式会社
发明人	洪圣恩;郑旼镐;白基镐
代理机构	永新专利商标代理有限公司	代理人	甘玲

摘要

本发明涉及一种适用于采用193nm ArF辐射线的照相平版印刷方法的半导体器件中的有机抗反射涂料用聚合物,及其制备方法。所述聚合物含有在193nm波长处具有高吸收的苯基和酰胺键。当本发明的聚合物用在形成超细图案的抗反射涂料中时,消除了由于晶片底层的光学性质及其上的光刻胶层厚度的改变而引起的驻波,也可防止光从下层衍射及反射而引起临界尺寸变化。本发明的抗反射涂料可稳定地生成适用于半导体器件的超细图案,且产率大大提高。还涉及含有上述抗反射聚合物的组合物,含有该组合物的抗反射涂料以及含有这些抗反射涂料的半导体器件。

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