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半导体器件、半导体器件的制造方法、显示装置和电子设备

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201010164659.2
  • IPC分类号:H01L51/05;H01L51/40;H01L27/28;G02F1/167;G09G3/32
  • 申请日期:
    2010-04-16
  • 申请人:
    索尼公司
著录项信息
专利名称半导体器件、半导体器件的制造方法、显示装置和电子设备
申请号CN201010164659.2申请日期2010-04-16
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2010-10-27公开/公告号CN101872841A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L51/05IPC分类号H;0;1;L;5;1;/;0;5;;;H;0;1;L;5;1;/;4;0;;;H;0;1;L;2;7;/;2;8;;;G;0;2;F;1;/;1;6;7;;;G;0;9;G;3;/;3;2查看分类表>
申请人索尼公司申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人索尼公司当前权利人索尼公司
发明人米屋伸英
代理机构北京东方亿思知识产权代理有限责任公司代理人柳春雷;南霆
摘要
本发明提供了半导体器件、半导体器件的制造方法、显示装置和电子设备。半导体器件包括:第一层配线,其包括被安装在衬底上的栅极电极;栅极绝缘膜,其具有将第一层配线的一部分暴露的开口,并覆盖包括栅极电极在内的衬底的整个表面;第二层配线,其包括被安装在栅极绝缘膜上的源极电极和漏极电极;绝缘分隔层,其具有第一开口和第二开口,第一开口将源极电极与漏极电极之间的边缘以及栅极绝缘膜的位于源极电极与漏极电极之间的部分暴露,第二开口与形成在栅极绝缘膜中的所述开口对准;以及有机半导体层,其跨着源极电极和漏极电极布置在形成在分隔层中的第一开口的底表面处。

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