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高密度难熔金属和合金溅射靶

发明专利无效专利

申请号：
CN200880002255.4
IPC分类号：B22F3/10;B22F3/04
申请日期：
2008-01-15
申请人：
H.C.施塔克公司

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	高密度难熔金属和合金溅射靶
申请号	CN200880002255.4	申请日期	2008-01-15
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2009-12-02	公开/公告号	CN101594955
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B22F3/10 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B22 铸造；粉末冶金 B22F 金属粉末的加工；由金属粉末制造制品；金属粉末的制造（用粉末冶金法制造合金入C22C；）；金属粉末的专用装置或设备 B22F3/00 由金属粉末制造工件或制品，其特点为用压实或烧结的方法；所用的专用设备 B22F3/10 仅烧结	IPC分类号	B;2;2;F;3;/;1;0;;;B;2;2;F;3;/;0;4查看分类表>
申请人	H.C.施塔克公司	申请人地址	美国马萨诸塞州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	H.C.施塔克公司	当前权利人	H.C.施塔克公司
发明人	P·库马;C·B·伍德;G·罗扎克;S·A·米勒;G·泽曼;R·-C·R·吴
代理机构	上海专利商标事务所有限公司	代理人	韦东;王颖

摘要

本发明涉及通过压制/烧结处理生产高密度难熔金属产品的方法。本发明还涉及生产溅射靶的方法以及由此生产的溅射靶。

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