一种基于石墨烯和超表面结构的耦合装置及制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201910741582.1
IPC分类号：G02B1/00;G02B6/12
申请日期：
2019-08-12
申请人：
武汉邮电科学研究院有限公司;武汉光谷信息光电子创新中心有限公司

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专利名称	一种基于石墨烯和超表面结构的耦合装置及制备方法
申请号	CN201910741582.1	申请日期	2019-08-12
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2019-12-20	公开/公告号	CN110596791A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B1/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B1/00 按制造材料区分的光学元件（光学玻璃的成分入C03C 3/00）；用于光学元件的光学涂层	IPC分类号	G;0;2;B;1;/;0;0;;;G;0;2;B;6;/;1;2查看分类表>
申请人	武汉邮电科学研究院有限公司;武汉光谷信息光电子创新中心有限公司	申请人地址	湖北省武汉市洪山区邮科院路88号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	武汉邮电科学研究院有限公司,武汉光谷信息光电子创新中心有限公司	当前权利人	武汉邮电科学研究院有限公司,武汉光谷信息光电子创新中心有限公司
发明人	胡晓;肖希;张宇光;陈代高;李淼峰;王磊;冯朋;余少华
代理机构	武汉智权专利代理事务所（特殊普通合伙）	代理人	邱云雷

摘要

本发明公开了一种耦合装置及方法，包括衬底、绝缘层、第一超表面结构、第二超表面结构和第三超表面结构、石墨烯层，第一超表面结构、第二超表面结构、第三超表面结构分别包括沿X方向周期性布置的第一单元、第二单元、第三单元；耦合装置的几何参数包括第一超表面结构、第二超表面结构、第三超表面结构各自的折射率、周期和厚度；几何参数被配置为入射光射向石墨烯层时，第三超表面结构和第一超表面结构分别将入射光透射和反射至第二超表面结构，使入射光在第二超表面结构内传播，入射光入射方向和入射光在第二超表面结构内的传播方向所在平面与XOY面垂直，入射方向与传播方向夹角为钝角。本发明具有大带宽、耦合效率高的优点。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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