布局图形的矫正方法及系统、掩膜版、设备、存储介质

发明专利有效专利

申请号：
CN202010046509.5
IPC分类号：G03F1/36;G03F1/84;G03F1/70
申请日期：
2020-01-16
申请人：
中芯国际集成电路制造（天津）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

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著录项信息

专利名称	布局图形的矫正方法及系统、掩膜版、设备、存储介质
申请号	CN202010046509.5	申请日期	2020-01-16
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-07-16	公开/公告号	CN113126421A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/36 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/16 （转入G03F 1/00-G03F 1/86） G03F1/36 具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺〔2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;3;6;;;G;0;3;F;1;/;8;4;;;G;0;3;F;1;/;7;0查看分类表>
申请人	中芯国际集成电路制造（天津）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司	申请人地址	天津市西青区西青经济开发区兴华道19号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中芯国际集成电路制造（天津）有限公司,中芯国际集成电路制造（上海）有限公司	当前权利人	中芯国际集成电路制造（天津）有限公司,中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
发明人	杜杳隽;刘庆炜
代理机构	上海知锦知识产权代理事务所（特殊普通合伙）	代理人	高静

摘要

一种布局图形的矫正方法及系统、掩膜版、设备、存储介质，矫正方法用于在确定掩膜基底后，实现光学邻近修正前的预矫正，包括：提供原始版图，包括与掩膜基底相对应的布局图形，并确定布局图形对应于掩膜基底上的位置作为第一初始位置，布局图形所在的区域为图形区，剩余区域为遮挡区；对掩膜基底进行检测，获取掩膜基底上的缺陷点并确定缺陷点在掩膜基底上的位置为第二初始位置；获取缺陷点的第一偏移矢量，第一偏移矢量适于使缺陷点由第二初始位置移动至任一遮挡区；计算第一偏移矢量的负矢量为第二偏移矢量；根据第二偏移矢量移动布局图形，使布局图形对应于掩膜基底上的位置由第一初始位置变更为优化后位置。本发明提高光刻图形的精度。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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